[实用新型]一种用于制备低熔点金属粉末的雾化喷嘴无效
| 申请号: | 201020636100.0 | 申请日: | 2010-12-01 |
| 公开(公告)号: | CN201969633U | 公开(公告)日: | 2011-09-14 |
| 发明(设计)人: | 严鹏飞;王华钰;严彪 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
| 主分类号: | B05B9/03 | 分类号: | B05B9/03;B05B1/34;B22F9/08 |
| 代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 许亦琳;余明伟 |
| 地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 本实用新型涉及一种用于制备低熔点金属粉末的雾化喷嘴,包括导液腔,导液腔的下端设有内凹形喷嘴口,导液腔的周围环绕有环形高压进气腔;高压进气腔依次通过一级环缝通道和二级环缝通道与喷嘴口连通,一级环缝通道和二级环缝通道位于高压进气腔的内侧壁上。本实用新型可由喷嘴芯、喷嘴外套、上衔接件和下衔接件四个部件同轴组装而成,其结构简单,气流通道密闭性好,易于加工成型。二级环缝沿气流方向设置成收缩式结构,一定程度上提高了气流的动能,能够达到合适的G/M比。内凹式喷嘴口,缩短了导液腔金属液的长度,减缓了腔内金属液的冷却,保证了金属液的流动性,再结合合理的喷射角度,能够形成稳定的负压气流,雾化过程稳定。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 用于 制备 熔点 金属粉末 雾化 喷嘴 | ||
【主权项】:
一种雾化喷嘴,其特征在于,包括导液腔(8),导液腔(8)的下端设有内凹形喷嘴口(9),导液腔(8)的周围环绕有环形高压进气腔(5);高压进气腔(5)依次通过一级环缝通道(6)和二级环缝通道(7)与喷嘴口(9)连通,一级环缝通道(6)和二级环缝通道(7)位于高压进气腔(5)的内侧壁上。
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