[实用新型]一种非破坏性垂直腔面发射激光器电流限制孔径测定装置无效

专利信息
申请号: 201020580090.3 申请日: 2010-10-22
公开(公告)号: CN201917324U 公开(公告)日: 2011-08-03
发明(设计)人: 徐晨;周康;解意洋;赵振波;刘发;沈光地 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: G01B11/08 分类号: G01B11/08
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 魏聿珠
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种非破坏性垂直腔面发射激光器电流限制孔径测定装置,该改装置由探针台,直流电源,显微镜,光学衰减片,CCD探测器和计算机组成。本实用新型利用激光器激射前的荧光光斑的形状来测定电流限制孔径的形状大小,可测量任意波段面发射激光器电流限制孔径。本装置测量误差为1μm,具有搭配简单,非破坏性测量,片上测试,实体测量等优点,并且在刻蚀光子晶体或者分布孔结构后可观测氧化孔与光子晶体缺陷孔之间的位置关系。
搜索关键词: 一种 破坏性 垂直 发射 激光器 电流 限制 孔径 测定 装置
【主权项】:
一种非破坏性垂直腔面发射激光器电流限制孔径测定装置,其特征在于:该装置包括探针台(13),直流电源(14),显微镜(11),光学衰减片(10),CCD探测器(9)和计算机(14);其中:在显微镜(11)上接CCD探测器(9)并在其之间放置光学衰减片(10),CCD探测器(9)接计算机(14);在显微镜(11)载物台上固定探针台(13),探针台(13)接直流电流源(15);面发射激光器(12)置于探针台(13)上,面发射激光器(12)发射出的荧光经过光学衰减片(10)和显微镜到达CCD探测器(9),CCD探测器(9)将收集到的数据传递到计算机(14)。
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