[实用新型]硅片抛光盘有效

专利信息
申请号: 201020554467.8 申请日: 2010-09-24
公开(公告)号: CN201881282U 公开(公告)日: 2011-06-29
发明(设计)人: 严研;储小飞 申请(专利权)人: 江苏东光微电子股份有限公司
主分类号: B24D13/14 分类号: B24D13/14
代理公司: 宜兴市天宇知识产权事务所 32208 代理人: 史建群;蔡凤苞
地址: 214204 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型是对电子材料例如硅片抛光盘的改进,其特征是抛光盘至少粘贴硅片部位厚度方向有多个孔径不大于2mm的排蜡孔。使得在蜡熔融粘片时,多余的蜡得以通过通孔排出,抛光盘底层蜡不会太厚,自流导致粘结蜡层均匀平整,从而保证了固定粘片的高度平整,极大提高了研磨抛光硅片的平整度,不平整度可以做到不大于4-8μm,满足了现代对抛光硅片高平整度要求,由此提高了所做芯片的电压一致性,简便解决了因蜡层厚度不易均匀导致的硅片不平整的问题。
搜索关键词: 硅片 抛光
【主权项】:
硅片抛光盘,包括固定硅片的抛光盘,其特征在于抛光盘至少粘贴硅片部位厚度方向有多个孔径不大于2mm的排蜡通孔。
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