[实用新型]一种C/C平板化学气相沉积分气系统有效
| 申请号： | 201020292479.8 | 申请日： | 2010-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN201817547U | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 侯卫权;李永军;李树芳;薛宁娟;苏君明;彭志刚 | 申请（专利权）人： | 西安超码科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 西安创知专利事务所 61213 | 代理人： | 谭文琰 |
| 地址： | 710025*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种C/C平板化学气相沉积分气系统，包括均匀布设在相邻C/C平板之间两侧的石墨垫块和位于底部C/C平板下方的炉底石墨板，所述炉底石墨板中心设置有炉底进气通孔，所述相邻C/C平板之间中心位置处设置有分气装置，所述分气装置为倒置的石墨圆筒，所述分气装置上部中心设置有圆形通孔一且所述圆形通孔一的直径由下至上逐渐递减，所述分气装置侧壁均匀设置有圆形通孔二。本实用新型结构简单、设计合理且使用操作方便，能有效提高上层产品的致密度，使得每层C/C平板密度均匀一致，同时具有重量小、使用轻便、装炉量大和适用范围广的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平板 化学 沉积 系统 | ||
【主权项】：
一种C/C平板化学气相沉积分气系统，包括均匀布设在相邻C/C平板(1)之间两侧的石墨垫块(2)和位于底部C/C平板(1)下方的炉底石墨板(3)，所述炉底石墨板(3)中心设置有炉底进气通孔(4)，其特征在于：所述相邻C/C平板(1)之间中心位置处设置有分气装置(5)，所述分气装置(5)为倒置的石墨圆筒，所述分气装置(5)上部中心设置有圆形通孔一(6)且所述圆形通孔一(6)的直径由下至上逐渐递减，所述分气装置(5)侧壁均匀设置有圆形通孔二(7)。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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