[实用新型]一体化光电二极管无效
| 申请号: | 201020161423.9 | 申请日: | 2010-04-15 |
| 公开(公告)号: | CN201754411U | 公开(公告)日: | 2011-03-02 |
| 发明(设计)人: | 崔峰敏 | 申请(专利权)人: | 傲迪特半导体(南京)有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/105 | 分类号: | H01L31/105;H01S5/024 |
| 代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 樊文红 |
| 地址: | 210034 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 一体化光电二极管,晶圆上部侧面及激光二极管的后面形成的投影光受光的P+区域,所述P+区域向外形成的N+区域;所述P+区域及N+区域的上面,共同吸附形成的防止激光二极管投影光的反射防止膜;在所述P+区域及反射防止膜的上面形成的电极金属;在所述N+区域的上面吸附形成的反射防止膜的表面上,用来安置激光二极管的粘着金属;在所述晶圆的背面形成的电极及粘着兼用的金属。采用一体化光电二极管,可缩短制造激光二极管装置的工序,降低不良率,降低成本等。 | ||
| 搜索关键词: | 一体化 光电二极管 | ||
【主权项】:
一体化光电二极管,其特征是,晶圆上部侧面及激光二极管的后面形成的投影光受光的P+区域,所述P+区域向外形成的N+区域;所述P+区域及N+区域的上面,共同吸附形成的防止激光二极管投影光的反射防止膜;在所述P+区域及反射防止膜的上面形成的电极金属;在所述N+区域的上面吸附形成的反射防止膜的表面上,用来安置激光二极管的粘着金属;在所述晶圆的背面形成的电极及粘着兼用的金属。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于傲迪特半导体(南京)有限公司,未经傲迪特半导体(南京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201020161423.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种LED器件
- 下一篇:一种智能光伏组件及光伏系统
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





