[实用新型]一种加强反应釜中气体分布的装置无效
申请号: | 201020160996.X | 申请日: | 2010-04-16 |
公开(公告)号: | CN201669095U | 公开(公告)日: | 2010-12-15 |
发明(设计)人: | 余建强;曹风华;刘荣;洪静;宫先文 | 申请(专利权)人: | 陕西开达化工有限责任公司 |
主分类号: | B01J8/10 | 分类号: | B01J8/10 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 罗笛 |
地址: | 721006*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型公开的一种加强反应釜中气体分布的装置,包括反应釜,反应釜内设置有搅拌器,搅拌器与设置在反应釜外部的电机连接,反应釜内、靠近底部设置有开有多个小孔的钛烧结盘,钛烧结盘与反应釜的底部形成一密闭空间,形成该密闭空间的反应釜的侧壁上连接有通气管,该通气管将该密闭空间与气体正压装置相连通。本实用新型加强反应釜中气体分布的装置,通过气体正压装置将气体反应物通过通气管送入反应釜底部,然后通过钛烧结盘上小孔的再分布,将又细小又均匀的气体气泡与混合反应液相接触,并配合搅拌器的搅拌,使反应液产生更剧烈紊流的状态。因而增强了反应釜中气体反应物与其他反应物及催化剂之间的接触,且方便控制,降低了成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 加强 反应 气体 分布 装置 | ||
【主权项】:
一种加强反应釜中气体分布的装置,包括反应釜(1),反应釜(1)内设置有搅拌器(3),搅拌器(3)与设置在反应釜(1)外部的电机(4)连接,其特征在于,所述反应釜(1)内、靠近底部设置有开有多个小孔的钛烧结盘(2),钛烧结盘(2)与反应釜(1)的底部形成一密闭空间,形成该密闭空间的反应釜(1)的侧壁上连接有通气管(5),该通气管(5)将该密闭空间与气体正压装置(6)相连通。
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