[实用新型]用于离子注入的晶圆固定装置

摘要

本实用新型公开了一种用于离子注入的晶圆固定装置，其包括用于静电吸附晶圆的晶圆吸盘，所述晶圆吸盘的内部由中心向边缘均匀设有至少两根独立的冷却管，每根冷却管分别与外部对应的冷却器连接构成独立的冷却水循环回路。本实用新型的用于离子注入的晶圆固定装置，通过在晶圆吸盘的内部均匀设置多套独立的冷却管，使得在晶圆的整个离子注入的过程中，可通过预先调整各个冷却管的温度来调整该各个冷却管所对应的晶圆内外各个区域的温度，从而改变所述晶圆内外各个区域的离子注入的行为模式，以补偿晶圆内外各个区域因制程工艺所造成的器件的阈值电压不均匀性，使得该晶圆内外各个区域的器件的阈值电压更加稳定，从而，有效提高半导体器件的良率。

主权项

一种用于离子注入的晶圆固定装置，包括用于静电吸附晶圆的晶圆吸盘，其特征在于，所述晶圆吸盘由中心向边缘均匀设有至少两根独立的冷却管，每根冷却管分别与外部对应的冷却器连接构成独立的冷却水循环回路。