[实用新型]掩膜装置有效
| 申请号： | 201020106736.4 | 申请日： | 2010-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN201611423U | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 郭志勇;陈雄达;王士敏;商陆平;李绍宗 | 申请（专利权）人： | 深圳莱宝高科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及平板显示器技术领域，尤其涉及一种掩膜装置。掩膜装置包括基板、形成于基板上的掩膜图案及保护层。掩膜图案将基板分为透光区域和遮光区域。保护层设置于基板上且覆盖掩膜图案，其用于保护掩膜图案，防止掩膜图案在清洗过程中被损伤，延长掩膜装置的使用寿命。由于不需顾及掩膜图案，清洗更方便且效率更高，利于减少清洗掩膜装置的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
一种掩膜装置，用于光刻工艺中，其包括基板和形成于基板上的掩膜图案，所述掩膜图案将所述基板分为透光区域和遮光区域，其特征在于：掩膜装置至少还包括保护层，所述保护层设置于所述基板上，并覆盖所述掩膜图案。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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