[实用新型]低位错密度的LED芯片有效
| 申请号: | 201020003717.9 | 申请日: | 2010-01-05 |
| 公开(公告)号: | CN201699052U | 公开(公告)日: | 2011-01-05 |
| 发明(设计)人: | 伍永安;高绍兵 | 申请(专利权)人: | 山西乐百利特科技有限责任公司 |
| 主分类号: | H01L33/48 | 分类号: | H01L33/48;H01L33/64 |
| 代理公司: | 山西五维专利事务所(有限公司) 14105 | 代理人: | 崔雪花 |
| 地址: | 048000 *** | 国省代码: | 山西;14 |
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| 摘要: | 本实用新型低位错密度的LED芯片,属于LED芯片技术领域;提供一种低位错密度的LED芯片;采用的技术方案是:低位错密度的LED芯片,包括:蓝宝石衬底、GaN缓冲层、N型电极、反射层、金属热沉单元、N型GaN、有源层、P型GaN和P型电极,蓝宝石衬底的上方自下而上依次设置有GaN缓冲层、N型电极、反射层、金属热沉单元、N型GaN、有源层、P型GaN和P型电极;上述金属热沉单元厚度不小于50微米,金属热沉单元的横向为间隔控制100-200μm之间的呈周期性分布的小单元;本实用新型应用在低位错密度的LED芯片设计与制造技术领域。 | ||
| 搜索关键词: | 低位 密度 led 芯片 | ||
【主权项】:
低位错密度的LED芯片,包括:蓝宝石衬底(1)、GaN缓冲层(2)、N型电极(3)、反射层(4)、金属热沉单元(5)、N型GaN(6)、有源层(7)、P型GaN(8)和P型电极(9),其特征在于:蓝宝石衬底(1)的上方自下而上依次设置有GaN缓冲层(2)、N型电极(3)、反射层(4)、金属热沉单元(5)、N型GaN(6)、有源层(7)、P型GaN(8)和P型电极(9)。
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