[发明专利]离子源专用清洗剂无效
| 申请号： | 201010619154.0 | 申请日： | 2010-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN102533463A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 宋国新 | 申请（专利权）人： | 宋国新 |
| 主分类号： | C11D1/94 | 分类号： | C11D1/94;C11D3/30;C11D3/20;C11D3/04;C11D3/60 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200434 上海市虹*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种离子源专用清洗剂，由下述组分按质量份组成：乙二胺四乙酸二钠20份；磷酸钠10份；十二烷基苯磺酸钠6份；丙酮50份；碳酸氢钠55份；烷基苄基氧化铵6份；聚丙烯酰胺20份；椰子油酰胺丙基甜菜碱6份。采用本发明的清洗剂，对离子源洗涤效果好，离子源仪器上残留少。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 专用 洗剂 | ||
【主权项】：
一种离子源专用清洗剂，由下述组分按质量份组成：乙二胺四乙酸二钠 20份；磷酸钠 10份；十二烷基苯磺酸钠 6份；丙酮 50份；碳酸氢钠 55份；烷基苄基氧化铵 6份；聚丙烯酰胺 20份；椰子油酰胺丙基甜菜碱6份。
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