[发明专利]一种光刻照明系统有效
| 申请号： | 201010619062.2 | 申请日： | 2010-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN102540752A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 张祥翔 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00;G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻照明系统，包括光源、聚光镜、匀光系统、中继透镜组、反射镜、剂量控制单元、掩模，光线经反射镜后分别进入剂量控制单元和掩模，其特征在于在剂量控制单元及掩模前，还具有相同的中继透镜后组，使剂量传感器和掩模上的照度具有很好的线性关系。本发明的光刻照明系统，当需要变换照明模式时，可以不需重新标定剂量控制传感器，从而节省曝光时间，提高产率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 照明 系统 | ||
【主权项】：
一种光刻照明系统，包括光源、聚光镜、匀光系统、中继透镜组、反射镜、剂量控制单元、掩模，光线经反射镜后分别进入剂量控制单元和掩模，其特征在于，所述光刻照明系统还包括：第一中继透镜后组，设置在所述反射镜与所述掩模之间；第二中继透镜后组，设置在所述反射镜与所述剂量控制单元之间，所述第一中继透镜后组和所述第二中继透镜后组结构相同，用于使剂量传感器和掩模上的照度具有对应的线性关系。
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