[发明专利]用于抗蚀剂下层的包含芳香环的化合物，以及抗蚀剂下层组合物

摘要

本发明披露了由以下化学式1表示的含芳香环化合物和包含所述化合物的抗蚀剂的下层组合物。在化学式1中，每个取代基与具体实施方式中定义的相同。所述含芳香环化合物可以具有优异的光学性能、机械特性和蚀刻选择性特性，并且可以利用旋涂涂覆方法应用。它对于利用短波长的光刻过程也是有用的，并显示出最小的残留酸含量。本发明还提供了利用抗蚀剂的下层组合物图案化器件的方法。[化学式1]

主权项

1.一种用于抗蚀剂的下层的由以下化学式1表示的含芳香环化合物：[化学式1]其中，在化学式1中，R₁到R₆每一个独立地为取代的或未取代的C1到C10烷基基团、取代的或未取代的C5到C20芳香环基团、取代的或未取代的C3到C20环烷基基团、取代的或未取代的C3到C20环烯基基团、取代的或未取代的C2到C20杂芳基基团、或取代的或未取代的C2到C20杂环烷基基团，X₁到X₆每一个独立地为氢、羟基基团(-OH)、取代或未取代的烷基胺基团、取代或未取代的烷氧基基团、或氨基基团(-NH₂)，n1到n6每一个独立地为0或1，以及1≤n1+n2+n3+n4+n5+n6≤6。