[发明专利]磁控源，磁控溅射设备和磁控溅射方法有效
| 申请号： | 201010613102.2 | 申请日： | 2010-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN102560395A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 李杨超;耿波;武学伟;邱国庆;刘旭 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张大威 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了磁控源，磁控溅射设备和磁控溅射方法。磁控源包括：靶材；位于靶材上方的磁控管；与磁控管相连以控制磁控管在靶材上方移动的扫描机构；扫描机构包括：桃形轨道，磁控管可移动地设置在桃形轨道上；与桃形轨道的极坐标原点相连，所述第一驱动轴用于驱动桃形轨道绕第一驱动轴的轴线转动的第一驱动轴；与第一驱动轴相连，所述第一驱动器用于驱动第一驱动轴转动的第一驱动器；和用于通过传动组件驱动所述磁控管沿桃形轨道移动的第二驱动器。本发明的磁控源，一方面由第一驱动器驱动桃形轨道转动，另一方面通过第二驱动器控制磁控管沿桃形轨道的运动速度，从而可以提高靶材的利用率并能达到较理想的靶材刻蚀效果，且具备高金属离化率。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控源 磁控溅射 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种磁控源，其特征在于，包括：靶材；磁控管，所述磁控管位于所述靶材上方；和扫描机构，所述扫描机构与所述磁控管相连以控制所述磁控管在所述靶材上方移动，其中所述扫描机构包括：桃形轨道，所述磁控管可移动地设置在所述桃形轨道上；第一驱动轴，所述第一驱动轴的底端与所述桃形轨道的极坐标原点相连，所述第一驱动轴用于驱动所述桃形轨道绕所述第一驱动轴的轴线转动；第一驱动器，所述第一驱动器与所述第一驱动轴相连，所述第一驱动器用于驱动所述第一驱动轴转动；和第二驱动器，所述第二驱动器用于通过传动组件驱动所述磁控管沿所述桃形轨道移动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，未经北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010613102.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
