[发明专利]投影式斜坡曝光光刻机装置与方法有效
| 申请号： | 201010606320.3 | 申请日： | 2010-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102566290A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 张俊;陈勇辉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种投影式斜坡曝光光刻机装置，沿光传播方向依序包括：照明系统，用以出射具有宽带光谱的光束；掩模，该掩模上形成有多数组标记图案；物镜；以及基底，该基底具有斜坡；在该掩模和该照明系统之间设有滤波系统，该宽光谱的光束经该滤波系统后出射具有不同的波长的光束分别照射该掩模上的不同位置，该不同波长的光经该掩模衍射后经过该物镜会聚至该基底的斜坡的不同的高度，以在该斜坡表面形成斜坡状的空间像。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 斜坡 曝光 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种投影式斜坡曝光光刻机装置，沿光传播方向依序包括：照明系统，用以出射具有宽带光谱的光束；掩模，该掩模上形成有多数组标记图案；物镜，以及基底，该基底具有斜坡；其特征在于，在该掩模和该照明系统之间设有滤波系统，该宽光谱的光束经该滤波系统后出射具有不同的波长的光束分别照射该掩模上的不同位置，该不同波长的光经该掩模衍射后经过该物镜会聚至该基底的斜坡的不同的高度，以在该斜坡表面形成斜坡状的空间像。
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