[发明专利]一种平面全息光栅曝光光路中实时监测装置的调整方法无效
| 申请号： | 201010599560.5 | 申请日： | 2010-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102087480A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | 孔鹏;李文昊;巴音贺希格;唐玉国;齐向东 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/18 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 刘树清 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 一种平面全息光栅曝光光路中实时监测装置的调整方法，属于光谱技术领域中涉及的平面全息光栅制作所使用的实时监测装置的调整方法。要解决的技术问题是：提供一种调整平面全息光栅曝光光路中实时监测装置的方法。技术方案为：步骤一，建立一套平面全息光栅干涉装置；步骤二，将一块刻线密度与待制作全息光栅相同的机刻光栅置于光栅基底应放置的位置，利用莫尔条纹现象将其调整至与光栅基底相同的位置；步骤三，将一He-Ne激光器发出的监测光束照射在机刻光栅上，在其衍射光的出射光轴方向上放置光电探测器。该方法能快速准确地调整平面全息光栅曝光光路中的实时监测装置，对提高光路调整的技术水平与提高效率有直接的重要价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平面 全息 光栅 曝光 光路中 实时 监测 装置 调整 方法 | ||
【主权项】：
一种平面全息光栅曝光光路中实时监测装置的调整方法，其特征在于：步骤一，配备一套平面全息光栅干涉装置，包括光源激光器(1)、第一平面反射镜(2)、第二平面反射镜(3)、空间滤波器(4)、准直反射镜(5)、第三平面反射镜(6)、光栅基底(7)和干涉场(8)；光源激光器(1)发出的激光束经第一平面反射镜(2)和第二平面反射镜(3)反射到达空间滤波器(4)，激光束经过空间滤波器(4)后成为发散的球面光波，再经准直反射镜(5)反射成为平行光束，平行光束的一部分经第三平面反射镜(6)反射后与另一部分平行光束交汇形成干涉场(8)，光栅基底(7)置于干涉场(8)内，光栅基底(7)的曝光面与第三平面反射镜(6)的反射面之间的夹角为90°；步骤二，将平面全息光栅干涉装置中的光栅基底(7)撤掉，将一块与待制作平面全息光栅具有相同刻线密度的机刻光栅(9)放置到光栅基底(7)的位置，调整机刻光栅(9)的方位，当机刻光栅(9)的前表面与第三平面反射镜(6)垂直时便能在机刻光栅(9)表面看到莫尔条纹，将莫尔条纹的条纹数调至最少，此时机刻光栅(9)的位置与原光栅基底(7)的位置一致；步骤三，将监测激光器(10)与光电探测器(11)置于平面全息光栅干涉装置中，使监测激光器(10)的出射光照射在机刻光栅(9)上，将光电探测器(11)放置在监测激光器(10)发出的光束经机刻光栅(9)衍射后产生的衍射光的光轴上，至此平面全息光栅曝光光路中所使用的实时监测装置调整完毕。
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