[发明专利]一种含氮胺类化合物的化学机械抛光液无效
| 申请号： | 201010598230.4 | 申请日： | 2010-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN102533119A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 徐春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区龙*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于3D封装的TSV硅抛光的含氮胺类化合物的化学机械抛光液，包括研磨颗粒、速率提升剂、pH调节剂，还包括表面活性剂、稳定剂、抑制剂、杀菌剂等，所述速率提升剂为一种或多种在与强碱介质混合过程中发生放热反应，且含有-NH-结构的氮胺类化合物。使用本发明抛光液，能大幅提高硅抛光速率，提高产率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 含氮胺类 化合物 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种含氮胺类化合物的化学机械抛光液，其特征在于，所述含氮胺化合物的化学机械抛光液包括有：研磨颗粒和速率提升剂；所述速率提升剂为一种或多种在与强碱介质混合过程中发生放热反应，且含有‑NH‑结构的氮胺化合物。
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