[发明专利]任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统及其方法在审
| 申请号： | 201010591718.4 | 申请日： | 2010-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN102021536A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 潘重光 | 申请（专利权）人： | 潘重光 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;H01J29/07 |
| 代理公司： | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人： | 朱凌 |
| 地址： | 430100 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统，包括至少一个真空室，每个真空室内均具有位于其中的M组荫罩板和沉积源；基板，具有M个基本单元，每一基本单元均一致性地被分割为N个区域；传动装置，用于使基板或荫罩板沿真空室的路径进行平移而使得在N个不同时间里，该M组荫罩板分别对应于M个基本单元中的不同区域；M为大于或等于1的自然数，N为大于或等于2的自然数。本发明具有能简化整个沉积系统、移动次数少以及能控制沉积材料的功效。 | ||
| 搜索关键词： | 任意 尺寸 底板 显示屏 沉积 荫罩板 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统，其特征在于，包括：至少一个真空室，每个真空室内均具有位于其中的M组荫罩板和沉积源；基板，具有M个基本单元，每一基本单元均一致性地被分割为N个区域；传动装置，用于使基板或荫罩板沿真空室的路径进行平移而使得在N个不同时间里，该M组荫罩板分别对应于M个基本单元中的不同区域；其中，M为大于或等于1的自然数，N为大于或等于2的自然数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于潘重光，未经潘重光许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010591718.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
