[发明专利]用于化学气相沉积设备的装载室有效
| 申请号: | 201010590983.0 | 申请日: | 2008-11-20 |
| 公开(公告)号: | CN102031500A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
| 发明(设计)人: | 李相琝;朴相泰 | 申请(专利权)人: | SFA股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
| 地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | 本发明是一种用于化学气相沉积的装载室,包含一腔体,具有复数个将一基板容置其中的单组腔室,与复数个使基板输入与取出所经过的腔槽,形成在相对于单组腔室的一侧表面以及另一侧表面;以及至少一补强板,至少连接到形成有腔槽的腔体的一侧表面以及另一侧表面,强化腔体的强度以避免因在单组腔室之间的压差而产生一弯曲应力。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 化学 沉积 设备 装载 | ||
【主权项】:
一种用于化学气相沉积设备的装载室,其特征在于,包含:一腔体,具有复数个单组腔室以容纳一基板,并凭借至少一隔墙将其分割;复数个强度补强单元,是相互间隔而设置,且可拆卸地连结到所述隔墙的一下表面,以强化所述隔墙的一强度,以避免造成所述隔墙弯曲;以及复数个接触支撑条(contact support bar),是连结到所述强度补强单元,并接触且支撑所述基板。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





