[发明专利]晶片单面抛光机主轴磨盘冷却装置无效
| 申请号： | 201010583115.X | 申请日： | 2010-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN102091994A | 公开（公告）日： | 2011-06-15 |
| 发明（设计）人： | 李明;陈明寿;杨理 | 申请（专利权）人： | 昆明台兴精密机械有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00;B24B55/02 |
| 代理公司： | 昆明今威专利代理有限公司 53115 | 代理人： | 赵云 |
| 地址： | 650202 云南省昆明市龙*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明为晶片单面抛光机的下抛光盘冷却装置，可解决抛光机下盘在旋转过程中的冷却问题，减少下盘机械加工中工艺难度，属于抛光机械技术领域。本冷却装置的抛光盘由上层不锈钢材质的下抛光盘和下层的冷却水盘连接而成，冷却水盘内侧加工有水槽，水槽的两端汇集在盘中心并分别连接排水管和进水管；排水管和进水管采用大小管相套的套叠结构，套管下端密封连接在带三通口的固定水管座上，另外两个通道分离的接口分别连接排水管接头和进水管接头。本发明可减少抛光过程中由于下抛光盘旋转与上抛光盘摩擦带来的热量，保证在长时间加工过程过程中大抛光盘温度可控，确保抛光产品的质量，延长了机床的寿命，保证机床精度。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 单面 抛光机 主轴 磨盘 冷却 装置 | ||
【主权项】：
一种晶片单面抛光机下抛光盘冷却装置，其特征是：抛光盘由上层不锈钢材质的下抛光盘和下层的冷却水盘连接而成，冷却水盘内侧加工有水槽，水槽的两端汇集在盘中心并分别连接排水管和进水管；排水管和进水管采用大小管相套的套叠结构，套管下端密封连接在带三通口的水管座上，另外两个通道分离的接口分别连接排水管接头和进水管接头。
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