[发明专利]一种模具自由曲面的磁流变抛光方法无效
| 申请号： | 201010573053.4 | 申请日： | 2010-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN102091975A | 公开（公告）日： | 2011-06-15 |
| 发明（设计）人： | 鲁聪达;文东辉;姜少飞;柴国钟 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人： | 王兵;王利强 |
| 地址： | 310014 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种模具自由曲面的磁流变抛光方法，包括以下步骤：1）将被抛光工件安装在容器中，向容器中注入磁流变抛光液，在水基或油基磁流变液中加入研磨抛光剂并搅拌均匀得到所述磁流变抛光液；2）根据工件待加工表面形状类型选择抛光磨头，并安装在机床主轴上，所述主轴连接三维运动机构；3）在外界磁场作用下，所述磁流变抛光液发生磁流变效应，在抛光磨头与工件表面间产生柔性研磨层，并驱动抛光磨头在机床主轴的带动下发生高速旋转，使得柔性研磨层与工件表面发生相对运动，从而实现磁流变抛光。本发明能提高加工精度、降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 模具 自由 曲面 流变 抛光 方法 | ||
【主权项】：
一种模具自由曲面的磁流变抛光方法，其特征在于：所述磁流变抛光方法包括以下步骤：1）将被抛光工件安装在容器中，向容器中注入磁流变抛光液，在水基或油基磁流变液中加入研磨抛光剂并搅拌均匀得到所述磁流变抛光液；2）根据工件待加工表面形状类型选择抛光磨头，并安装在机床主轴上，所述主轴连接三维运动机构；3）在外界磁场作用下，所述磁流变抛光液发生磁流变效应，在抛光磨头与工件表面间产生柔性研磨层，并驱动抛光磨头在机床主轴的带动下发生高速旋转，使得柔性研磨层与工件表面发生相对运动，从而实现磁流变抛光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江工业大学，未经浙江工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010573053.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
