[发明专利]钨掺杂的纳米晶二氧化钛半导体薄膜及其制备方法和应用无效

专利信息
申请号: 201010555232.5 申请日: 2010-11-23
公开(公告)号: CN102157268A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 王忠胜;刘芳;周刚;张希 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H01G9/042 分类号: H01G9/042;H01G9/20;H01M14/00;H01L51/42;H01L51/44;H01L51/48;C03C17/23
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于光电化学和光伏技术领域,具体为一种钨掺杂的纳米晶二氧化钛半导体薄膜及其制备方法与应用。本发明首先将钨酸溶液加入到异丙氧钛在水中,经处理得到钨掺杂二氧化钛胶体,然后通过水热法形成纳米晶薄膜。钨掺杂后可以调控二氧化钛的导带能级,使之与染料的激发态能级更好的匹配。利用该纳米晶薄膜组装染料敏化太阳电池,可显著提高电池的短路光电流和电子寿命,从而使能量转化效率大幅提高。该发明可以弥补某些染料与二氧化钛导带能级不匹配的缺点,具有很强的应用前景。
搜索关键词: 掺杂 纳米 氧化 半导体 薄膜 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种钨掺杂的纳米晶二氧化钛半导体薄膜,其特征在于该纳米晶半导体薄膜中,钨、钛含量的质量比为:0 < W/Ti < 25 %,纳米晶粒径范围为5‑50 nm,薄膜厚度为2‑20 μm,无色透明或白色。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学,未经复旦大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010555232.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top