[发明专利]正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法

摘要

本发明涉及一种正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法。目的在于提供一种正型放射线敏感性树脂组合物，其即使用狭缝涂布法作为涂布方法时，也能显示优良的涂布性乃至膜厚均匀性，且能缩短涂布膜的干燥时间，放射线敏感度等也优良。本发明的正型放射线敏感性树脂组合物含有[A]硅氧烷聚合物、[B]醌二叠氮基化合物和[C]式(1)表示的溶剂，式(1)中，R1和R2分别独立地表示碳原子数为1～6的直链状或支链状的烷基，R1和R2的任何之一为碳原子数为1～4时，另一个碳原子数为5或6。R1-O-R2       (1)。

主权项

一种正型放射线敏感性树脂组合物，其含有：[A]硅氧烷聚合物，[B]醌二叠氮基化合物，和[C]下式(1)表示的溶剂R1‑O‑R2           (1)式(1)中，R1和R2分别独立地表示碳原子数为1～6的直链状或支链状的烷基，R1和R2的任何之一为碳原子数1～4时，另一个的碳原子数为5或6。