[发明专利]一种测量光波阵列面或光学反射面表面平坦度的方法无效

专利信息
申请号: 201010520367.8 申请日: 2010-10-26
公开(公告)号: CN101975562A 公开(公告)日: 2011-02-16
发明(设计)人: 高文;黄育争;姚俊 申请(专利权)人: 西安昂科光电有限公司
主分类号: G01B11/30 分类号: G01B11/30
代理公司: 西安西交通盛知识产权代理有限责任公司 61217 代理人: 李自爱
地址: 710077 陕西省西安市高新区锦*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种测量光波阵列面或光学反射面表面平坦度的方法,包括下述步骤:(1)将光管发出的光束直接射到待测区域或者经过折光元件折射到待测区域;所述待测区域是光学反射面或光波阵列面;(2)若待测区域是光学反射面,则转步骤(3);若待测区域是光波阵列面,则转步骤(4);(3)射到待测光学反射面的光束经光学反射面反射后被设置在光管内部的探测器接收,探测器根据接收到的反射光束测试出每束光束的偏转角度和每束光束所对应待测光学反射面的倾斜量,得到光学反射面表面平坦度;(4)射到待测光学反射面的光束直接用探测器接收光波,若光管所接收到的光波阵列面发生偏转,测得其偏转值。本发明的方法不受测试面积的限制,对于较大口径的光波阵列面或者较大面积的光学反射面表面平坦度尤为擅长。
搜索关键词: 一种 测量 光波 阵列 光学 反射 表面 平坦 方法
【主权项】:
一种测量光波阵列面或光学反射面表面平坦度的方法,其特征在于,包括下述步骤:(1)在光管与待测区域之间建立光线通路,使光管发射出的光束能直接或间接射到待测区域;所述待测区域是光学反射面或光波阵列面;(2)若待测区域是光学反射面,则转步骤(3);若待测区域是光波阵列面,则转步骤(4);(3)射到待测光学反射面的光束经光学反射面反射后被设置在光管内部的探测器接收,探测器根据接收到的反射光束测试出每束光束的偏转角度和每束光束所对应待测光学反射面的倾斜量,得到光学反射面表面平坦度;(4)设置在光管内部的探测器接收光波阵列面发射出的光波,通过计算光管所接收到的光波阵列面发生偏转的偏转角度,测得光波阵列面的偏转值。
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