[发明专利]一种连续生产挠性覆铜板的方法

摘要

本发明提供了一种连续生产挠性覆铜板的方法，其特征在于，该方法包括对在有机高分子聚合物薄膜表面进行连续的离子注入和/或等离子体沉积步骤后，进行连续的电镀铜的步骤。采用本发明所提供的方法生产的两层型挠性覆铜板，其铜膜与基材的结合力远远高于“溅射/电镀法”所生产的挠性覆铜板，而跟采用“涂布法”和“压合法”制备的挠性覆铜板相当，而且铜膜的厚度可以容易地控制在18微米以下。此外，尤为重要的是，本发明所提供的方法是连续生产两层型挠性覆铜板的方法，该方法不仅能够对薄膜基材的一个面，而且能够同时对薄膜基材的两面同时进行处理，因此生产效率很高。

主权项

一种连续生产挠性覆铜板的方法，其特征在于，该方法包括对在有机高分子聚合物薄膜表面进行连续的离子注入和/或等离子体沉积的步骤后进行连续的电镀铜的步骤，其中，所述连续的离子注入和/或等离子体沉积的步骤是在以下设备中进行，该设备包括离子源和真空室，所述真空室壁上包括设置有抽真空口以及至少1个用于与所述离子源连通的开口；所述真空室内包括设置有放卷辊、张力调节机构、冷却部件、收卷辊；所述冷却部件置于所述放卷辊和所述收卷辊之间，所述张力调节机构置于所述冷却部件的两侧并位于所述放卷辊与所述收卷辊之间；所述冷却部件由至少1根可以自由转动的、中空且内通冷却介质的冷却辊组成，所述冷却辊、所述放卷辊和所述收卷辊都相互平行，并且所述冷却辊的轴向与所述等离子体进入所述真空室的方向垂直；所述等离子体进入所述真空室的方向与所述冷却辊的轴向均为水平方向，所述冷却辊与所述开口在水平高度上一一对应；或者所述等离子体进入所述真空室的方向为水平方向，所述冷却辊的轴向为竖直方向，所述开口与所述冷却辊在左右方向或者前后方向上一一对应；或者所述等离子体进入所述真空室的方向为竖直方向，所述冷却辊相对应地位于所述开口的正下方或者正上方。