[发明专利]聚(3,4-二烷氧基噻吩)和聚阴离子的复合体的水分散体的制造方法无效
| 申请号： | 201010295732.X | 申请日： | 2006-10-06 |
| 公开（公告）号： | CN101982486A | 公开（公告）日： | 2011-03-02 |
| 发明（设计）人： | 森田贵之;千种康男;宫西恭子;S·基希梅尔;W·勒韦尼希 | 申请（专利权）人： | 长濑化成株式会社;H.C.世泰科有限公司 |
| 主分类号： | C08J3/05 | 分类号： | C08J3/05;C08L65/00;C08L25/18;C08G61/12 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能够形成透明性和导电性优异的导电性薄膜的、含有导电性聚合物成分的水分散体的制造方法，和由该方法得到的水分散体。上述方法包括如下工序：在聚阴离子的存在下，使用氧化剂，使3，4-二烷氧基噻吩在水系溶剂中聚合，在该聚合工序中，反应液中的碱金属离子浓度保持在400ppm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 二烷氧基 噻吩 聚阴离子 复合体 水分 散体 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种聚(3，4-二烷氧基噻吩)和聚阴离子的复合体的水分散体的制造方法，其特征在于，包括如下聚合工序：在聚阴离子的存在下，使用氧化剂，使下式(1)所示的3，4-二烷氧基噻吩在水系溶剂中聚合，![]()
式中，R1和R2相互独立且为氢或C1-4的烷基，或者一起形成C1-4的亚烷基，该亚烷基可以被任意取代，在该聚合工序中，反应液中的碱金属离子浓度保持在400ppm以下。
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