[发明专利]用于为显微结构的电磁散射性质建模的方法和设备以及用于重构显微结构的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201010294451.2 申请日: 2010-09-21
公开(公告)号: CN102033433A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: M·C·范布尔登 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 公开了一种用于对显微结构的电磁散射性质建模的方法和设备以及用于重构显微结构的方法和设备。通过数值求解矢量场F的体积积分方程式实现计算结构的电磁散射性质的体积积分方法的收敛性改善。矢量场F可以通过基的变化与电场E相关,并且可以在材料边界处可以是连续的。根据Laurent(劳伦)规则使用卷积算子执行矢量场F的卷积,其允许经由一维和/或二维快速傅里叶变换实现有效的矩阵矢量乘积。一种可逆的卷积-基变化算子C配置成通过根据周期性结构的材料性质和几何性质执行基的变化而将矢量场F转换成电场E。改善的体积积分方法可以并入量测工具中的向前衍射模型,用于重构物体的近似结构,以便评估光刻设备的临界尺寸性能。
搜索关键词: 用于 显微结构 电磁 散射 性质 建模 方法 设备 以及
【主权项】:
一种计算结构的电磁散射性质的方法,所述结构沿至少一个方向是周期性的并且包括不同性质的材料,以便在材料边界处引起电磁场的不连续,所述方法包括对通过基的变化而与所述电磁场相关的矢量场的体积积分方程进行数值求解,以便确定所述矢量场的近似解,所述矢量场在材料边界处是连续的。
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