[发明专利]基于返回散射和斜测电离图联合反演电离层参数的方法有效

专利信息
申请号: 201010288722.3 申请日: 2010-09-21
公开(公告)号: CN102411664A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 杨东升;焦培南;柳文;程延锋 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第二十二研究所
主分类号: G06F19/00 分类号: G06F19/00
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 梁军
地址: 266107 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种基于返回散射和斜测电离图联合反演电离层参数的方法,包括:确定返回散射探测和斜向探测联合反演需要使用的电离层模型为准抛物模型;设定电离层模型参数的大小,利用设定的电离层参数进行计算得到仿真的返回散射电离图前沿和斜测电离图;对仿真的返回散射电离图前沿和斜测电离图添加随机误差后作为最终反演用的返回散射电离图前沿和斜测电离图;对最终反演用的返回散射电离图前沿和斜测电离图进行数据采样作为反演的输入,比较反演的结果和设定的电离层模型参数的差异,从而判断反演算法的有效性;本发明通过引入新型的电离层联合探测技术以及利用同一探测区域多种形式的探测数据作为反演算法的输入,有效提高反演精度和稳定性。
搜索关键词: 基于 返回 散射 电离 联合 反演 电离层 参数 方法
【主权项】:
一种基于返回散射和斜测电离图联合反演电离层参数的方法,其特征在于,包括:步骤A:确定返回散射探测和斜向探测联合反演需要使用的电离层模型为准抛物模型;步骤B:设定电离层模型参数的大小,利用设定的电离层参数进行计算得到仿真的返回散射电离图前沿和斜测电离图;步骤C:对仿真的返回散射电离图前沿和斜测电离图添加随机误差后作为最终反演用的返回散射电离图前沿和斜测电离图;步骤D:对最终反演用的返回散射电离图前沿和斜测电离图进行数据采样作为反演的输入并确定电离层模型的搜索域,比较反演的结果和设定的电离层模型参数的差异,从而判断反演算法的有效性。
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