[发明专利]降低光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差的方法有效
| 申请号： | 201010283746.X | 申请日： | 2010-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN102402124A | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 王雷 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种降低光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差的方法，用于曝光单元四周设置有风车型划片槽的产品中，包括如下技术特征：在光刻掩膜版设计时，将光刻套刻图形的外框和内框对称设置在曝光单元两边的风车型划片槽内；通过分步重复光刻机对曝光单元进行重复曝光，在一曝光单元四周的每个边均形成由所述外框和内框套刻形成的光刻套刻图形；测量所述光刻套刻图形，得到由光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差；通过模型拟合得到相应的畸变量，然后在每次曝光时通过光刻对准参数的补正来补偿相应的畸变量，修正所述光刻机镜头的畸变。采用本发明的方法，通过曝光补偿，提高套刻精度。 | ||
| 搜索关键词： | 降低 光刻 镜头 畸变 引起 对准 偏差 方法 | ||
【主权项】：
一种降低光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差的方法，用于曝光单元四周设置有风车型划片槽的产品中，其特征在于：在光刻掩膜版设计时，曝光单元四周的每个风车型划片槽内至少放置一个光刻套刻图形，其中光刻套刻图形的外框和内框对称设置在曝光单元两边的风车型划片槽内，以使所述曝光单元被重复曝光时，所述外框和内框套在一起；通过分步重复光刻机对曝光单元进行重复曝光，在一曝光单元四周的每个边均形成由所述外框和内框套刻形成的光刻套刻图形；测量所述光刻套刻图形，得到由光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差；通过光刻套刻模型拟合得到相应的畸变量，然后在采用该分步重复光刻机进行每次曝光时通过光刻对准参数的补正来补偿相应的畸变量，修正所述光刻机镜头的畸变。
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