[发明专利]基于碳化硅金属半导体场效应管结构的β辐照探测器有效

专利信息
申请号: 201010278812.4 申请日: 2010-09-09
公开(公告)号: CN102074610A 公开(公告)日: 2011-05-25
发明(设计)人: 郭辉;詹晓伟;张玉明;程和远;洪朴 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L31/119 分类号: H01L31/119;H01L31/0352;H01L31/0224;G01T1/24;H01L31/18
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;朱红星
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于碳化硅金属半导体场效应晶体管结构的β射线辐照探测器,主要解决了现有β辐照探测器抗辐照性能不佳和能量转换效率低的问题。该探测器自下而上包括n型衬底(8)、p型缓冲层(7)、浓度为3.5~4×1017cm-3的n型沟道(6)、n型缓冲层(5)和欧姆接触层(4),欧姆接触层上淀积源漏极(2),n型缓冲层上淀积半透明肖特基接触层(1),该肖特基接触层由高势垒肖特基金属Au/Ti/Pt构成,其埋入n型缓冲层(5)的深度为0.06~0.08μm,栅极和源漏极以外的表面区域覆盖有一层SiO2钝化层(3)。本发明具有抗辐照能力强、能量转换效率高、探测效率高的特点,可用于核能中对β射线的探测。
搜索关键词: 基于 碳化硅 金属 半导体 场效应 结构 辐照 探测器
【主权项】:
一种基于碳化硅金属半导体场效应管结构的β辐照探测器,自下而上包括n型衬底(8)、p型缓冲层(7)、n型沟道(6)、n型缓冲层(5)和两侧n+掺杂的欧姆接触层(4),该欧姆接触层上淀积有金属Ni作为源漏极(2)、n型缓冲层中间区域淀积半透明肖特基接触层(1),并埋入n型缓冲层(5)内,该肖特基接触层由高势垒肖特基金属Au/Ti/Pt构成,栅极和源漏极以外的表面区域覆盖有一层SiO2钝化层(3),其特征在于n型沟道的浓度为3.5~4×1017cm‑3,肖特基接触层(1)埋入n型缓冲层(5)的深度为0.06~0.08μm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010278812.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top