[发明专利]半导体发光器件及其制造方法、以及晶片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201010275570.3 申请日: 2010-09-08
公开(公告)号: CN102194934A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 櫛部光弘;大埸康夫;金子桂;勝野弘;山田真嗣 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L33/02 分类号: H01L33/02;H01L33/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 杨晓光;于静
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及半导体发光器件、晶片、用于制造半导体发光器件的方法和用于制造晶片的方法。根据一个实施例,一种半导体发光器件包括第一层、第二层以及发光部。第一层包含n型GaN和n型AlGaN中的至少一种。第二层包含p型AlGaN。发光部具有单量子阱结构。单量子阱结构包括第一势垒层、第二势垒层以及阱层。第一势垒层被设置在第一层与第二层之间并包含Alx1Ga1-x1-y1Iny1N(0<x1,0≤y1,x1+y1<1)。第二势垒层被设置在第一势垒层与第二层之间并包含Alx2Ga1-x2-y2Iny2N(0<x2,0≤y2,x2+y2<1)。阱层被设置在第一势垒层与第二势垒层之间,包含Alx0Ga1-x0-y0Iny0N(0≤x0,0<y0,x0+y0<1,y1<y0,y2<y0)并被配置为发射近紫外光。
搜索关键词: 半导体 发光 器件 及其 制造 方法 以及 晶片
【主权项】:
一种半导体发光器件,包括:第一层,其包含n型GaN和n型AlGaN中的至少一种;第二层,其包含p型AlGaN;以及发光部,其具有单量子阱结构,所述单量子阱结构包括:第一势垒层,其被设置在所述第一层与所述第二层之间并包含Alx1Ga1‑x1‑y1Iny1N(0<x1,0≤y1,x1+y1<1);第二势垒层,其被设置在所述第一势垒层与所述第二层之间并包含Alx2Ga1‑x2‑y2Iny2N(0<x2,0≤y2,x2+y2<1);以及阱层,其被设置在所述第一势垒层与所述第二势垒层之间,包含Alx0Ga1‑x0‑y0Iny0N(0≤x0,0<y0,x0+y0<1,y1<y0,y2<y0),并被配置为发射近紫外光。
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