[发明专利]半导体发光器件及其制造方法、以及晶片及其制造方法有效
申请号: | 201010275570.3 | 申请日: | 2010-09-08 |
公开(公告)号: | CN102194934A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 櫛部光弘;大埸康夫;金子桂;勝野弘;山田真嗣 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 杨晓光;于静 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及半导体发光器件、晶片、用于制造半导体发光器件的方法和用于制造晶片的方法。根据一个实施例,一种半导体发光器件包括第一层、第二层以及发光部。第一层包含n型GaN和n型AlGaN中的至少一种。第二层包含p型AlGaN。发光部具有单量子阱结构。单量子阱结构包括第一势垒层、第二势垒层以及阱层。第一势垒层被设置在第一层与第二层之间并包含Alx1Ga1-x1-y1Iny1N(0<x1,0≤y1,x1+y1<1)。第二势垒层被设置在第一势垒层与第二层之间并包含Alx2Ga1-x2-y2Iny2N(0<x2,0≤y2,x2+y2<1)。阱层被设置在第一势垒层与第二势垒层之间,包含Alx0Ga1-x0-y0Iny0N(0≤x0,0<y0,x0+y0<1,y1<y0,y2<y0)并被配置为发射近紫外光。 | ||
搜索关键词: | 半导体 发光 器件 及其 制造 方法 以及 晶片 | ||
【主权项】:
一种半导体发光器件,包括:第一层,其包含n型GaN和n型AlGaN中的至少一种;第二层,其包含p型AlGaN;以及发光部,其具有单量子阱结构,所述单量子阱结构包括:第一势垒层,其被设置在所述第一层与所述第二层之间并包含Alx1Ga1‑x1‑y1Iny1N(0<x1,0≤y1,x1+y1<1);第二势垒层,其被设置在所述第一势垒层与所述第二层之间并包含Alx2Ga1‑x2‑y2Iny2N(0<x2,0≤y2,x2+y2<1);以及阱层,其被设置在所述第一势垒层与所述第二势垒层之间,包含Alx0Ga1‑x0‑y0Iny0N(0≤x0,0<y0,x0+y0<1,y1<y0,y2<y0),并被配置为发射近紫外光。
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