[发明专利]真空制程设备、真空传输制程设备及方法有效
| 申请号: | 201010274744.4 | 申请日: | 2010-09-07 |
| 公开(公告)号: | CN102403392A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
| 发明(设计)人: | 钱锋 | 申请(专利权)人: | 上海凯世通半导体有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 薛琦;朱水平 |
| 地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种真空制程设备,其包括:至少一传输平台,所述传输平台具有n个尺寸相同且沿着所述传输平台的移动方向延伸的用于承载工件的工件承载区域,每个工件具有n个待加工区域;n个加工装置,各加工装置的加工介质用于一一对应地对工件的各待加工区域进行加工;一控制装置,用于使各加工装置的加工介质作用区域与所述传输平台在与所述传输平台的移动方向垂直的方向上发生相互独立的相对移动;每个加工装置的加工介质对各工件承载区域中的各工件的相应待加工区域进行加工。本发明还公开了三种真空制程方法,以及三种真空传输制程设备及方法。本发明能够实现极高的生产效率。 | ||
| 搜索关键词: | 真空 设备 传输 方法 | ||
【主权项】:
一种真空制程设备,其包括一真空制程腔,其特征在于,该真空制程设备还包括:至少一可以在该真空制程腔中移动的传输平台,所述传输平台具有n个尺寸相同且沿着所述传输平台的移动方向延伸的用于承载工件的工件承载区域,n为大于或等于2的自然数,每个工件具有n个待加工区域;n个设于该真空制程腔中的加工装置,各加工装置的加工介质用于一一对应地对工件的各待加工区域进行加工,各加工装置的加工介质能够穿过所述传输平台、但无法穿过工件;一控制装置,用于使各加工装置的加工介质作用区域与所述传输平台在与所述传输平台的移动方向垂直的方向上发生相互独立的相对移动;所述传输平台的移动以及各加工装置的加工介质作用区域与所述传输平台的相对移动,使得每个加工装置的加工介质对各工件承载区域中的各工件的相应待加工区域进行加工。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





