[发明专利]光学元件及其制造方法无效
| 申请号： | 201010272052.6 | 申请日： | 2010-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN102004273A | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | 高桥秀俊;饭田文彦;木曾弘之;伊藤优;田泽洋志;西村良 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供可擦拭指纹等污渍的光学元件及其制造方法。具有防反射功能的光学元件包括：具有表面的基体以及以小于可见光波长的细微节距在基体的表面设置多个且由凸部或凹部组成的多个构造体，形成构造体的材料的弹性模量大于等于1MPa小于等于1200MPa，上述构造体的高宽比大于等于0.6小于等于1.5。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种具有防反射功能的光学元件，其特征在于，包括：具有表面的基体；以及以小于等于可见光的波长的细微节距在所述基体的表面配置多个且由凸部或凹部构成的多个构造体，形成所述构造体的材料的弹性模量大于等于1MPa小于等于1200MPa，所述构造体的高宽比大于等于0.6小于等于1.5。
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