[发明专利]树脂，抗蚀剂组合物和用于制造抗蚀剂图案的方法无效
| 申请号： | 201010269819.X | 申请日： | 2010-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN102002121A | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | 市川幸司;釜渊明;向井优一 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | C08F20/52 | 分类号： | C08F20/52;C08F220/32;C08F220/18;C08F220/28;C08F220/52;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 柳春琦 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明提供一种树脂，所述树脂包含衍生自由式(I)表示的化合物的结构单元，其中R1表示氢原子，卤素原子或任选具有一个或多个卤素原子的C1至C6烷基；X1表示C2至C36杂环基，包含在所述杂环基中的一个或多个氢原子可以被卤素原子，羟基，C1至C24烃，C1至C12烷氧基，C2至C4酰基，C2至C4酰氧基代替，并且包含在所述杂环基中的一个或多个-CH2-可以被-CO-或-O-代替。 |
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| 搜索关键词： | 树脂 抗蚀剂 组合 用于 制造 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种树脂，所述树脂包含衍生自由式(I)表示的化合物的结构单元；![]()
其中R1表示氢原子，卤素原子或任选具有一个或多个卤素原子的C1至C6烷基；X1表示C2至C36杂环基，包含在所述杂环基中的一个或多个氢原子可以被卤素原子，羟基，C1至C24烃基，C1至C12烷氧基，C2至C4酰基或C2至C4酰氧基代替，并且包含在所述杂环基中的一个或多个-CH2-可以被-CO-或-O-代替。
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