[发明专利]掩膜版制作方法及系统

摘要

本发明公开了一种掩膜版制作方法及系统，该方法包括：a)确定光刻工艺条件，并收集所述光刻工艺条件对应的OPC数据；b)根据所述OPC数据创建OPC模型，建立OPC程序；c)提供设计图形数据，按照设计规则对设计图形数据进行预处理，将所述设计图形数据转换为符合设计规则的图形数据；d)根据所述OPC程序，对所述预处理后的设计图形数据进行OPC运算；e)验证OPC运算后的图形数据的CD与目标CD的差值是否在误差允许范围内，如果否，返回步骤b)，如果是，按照OPC运算后的图形数据制作掩膜版。采用本发明的方法制作出的掩膜版满足光刻过程的需求，使光刻后在晶片上的成像更加准确，提高了电路的性能和生产成品率。

主权项

一种掩膜版制作方法，其特征在于，包括：a)确定光刻工艺条件，并收集所述光刻工艺条件对应的OPC数据；b)根据所述OPC数据创建OPC模型，由所述OPC模型建立OPC程序；c)提供设计图形数据，按照设计规则对所述设计图形数据进行预处理，将所述设计图形数据转换为符合设计规则的图形数据；d)根据所述OPC程序，对所述预处理后的设计图形数据进行OPC运算；e)验证所述OPC运算后的图形数据的CD与目标CD的差值是否在误差允许范围内，如果否，返回步骤b)，如果是，按照所述OPC运算后的图形数据制作掩膜版。