[发明专利]具有金属保护的光刻胶剥离液组合物无效

专利信息
申请号: 201010262392.0 申请日: 2010-08-25
公开(公告)号: CN102141743A 公开(公告)日: 2011-08-03
发明(设计)人: 刘翘楚;李海荣;王寅生 申请(专利权)人: 上海飞凯光电材料股份有限公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 潘诗孟
地址: 201206 *** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了一种具有金属保护的光刻胶剥离液组合物,由下列重量百分比的物质组成:季铵类氢氧化物0.1-10%;水溶性链烷醇胺5-30%;水溶性有机极性溶剂55-94.4%;糖醇类添加剂0.5-5%;上述水溶性有机极性溶剂为砜类、亚砜类、酰胺类或内酰胺类溶剂。相对于已有的剥离液组合物,本发明在保有优异的光刻胶剥离性能同时,对于光刻胶覆盖下的金属基镀膜层,特别是铜和铝的抗腐蚀性优良,对铜的侧蚀保护效果良好。同时该剥离液组合物具有低挥发性以及低毒性,并且容易用去离子水清洗干净,具有良好的可操作性能。本发明用于半导体元件制造过程中对于光刻胶掩模的剥离和溶解。
搜索关键词: 具有 金属 保护 光刻 剥离 组合
【主权项】:
一种具有金属保护的光刻胶剥离液组合物,由下列重量百分比的物质组成:季铵类氢氧化物0.1‑10%;水溶性链烷醇胺5‑30%;水溶性有机极性溶剂55‑94.4%;糖醇类添加剂0.5‑5%;上述水溶性有机极性溶剂为砜类、亚砜类、酰胺类或内酰胺类溶剂。
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