[发明专利]非电解镍-钯-金镀敷方法、镀敷处理物、印刷布线板、内插板以及半导体装置无效
申请号: | 201010254799.9 | 申请日: | 2010-08-09 |
公开(公告)号: | CN101994104A | 公开(公告)日: | 2011-03-30 |
发明(设计)人: | 橘贤也;伊藤哲平;三井保明 | 申请(专利权)人: | 住友电木株式会社 |
主分类号: | C23C18/20 | 分类号: | C23C18/20;C23C18/31;H05K3/22 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 菅兴成;吴小瑛 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的是提供一种非电解镍-钯-金镀敷方法,在印刷布线板的端子部分、其它电子部件的端子部分或者其它带金属微细图案的树脂基材等的镀敷处理对象表面上,进行非电解镍-钯-金镀敷,能够抑制金属在作为基底的树脂表面上异常析出,使镀敷处理面的品质优良。还提供一种镀敷处理面品质优良的镀敷处理物,特别是内插板、主板以及使用它们的半导体装置。本发明的方案是,在印刷布线板的端子部分等的被处理部分上进行带金属微细图案基材的非电解镍-钯-金镀敷处理,其中,在赋予钯催化剂的工序之后且在非电解钯镀敷处理之前的任意阶段中,实施选自由利用pH10~14的溶液进行的处理和等离子体处理所构成的组中的至少1种的表面处理。 | ||
搜索关键词: | 电解 金镀敷 方法 处理 印刷 布线 插板 以及 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种非电解镍‑钯‑金镀敷方法,其中,在由树脂构成的支撑表面上设置有金属微细图案而形成的带金属微细图案基材的该金属微细图案上,赋予钯催化剂,然后,进行非电解镍‑钯‑金镀敷,其特征在于:在赋予钯催化剂的工序之后并且在进行非电解钯镀敷处理之前的任意阶段中,对所述带金属微细图案基材进行表面处理,该表面处理是选自由利用pH 10~14的溶液进行的处理和等离子体处理所构成的组中的至少1种。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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