[发明专利]一种高比表面积超薄氮化硼纳米片的制备方法无效

专利信息
申请号: 201010251304.7 申请日: 2010-08-12
公开(公告)号: CN101913576A 公开(公告)日: 2010-12-15
发明(设计)人: 徐立强;王连成;钱逸泰;尉云平 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: C01B21/064 分类号: C01B21/064
代理公司: 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 代理人: 周慰曾
地址: 250100 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种高比表面积超薄氮化硼纳米片材料的制备方法。将氧化硼,锌、铁或镍与盐酸肼、氯化铵或溴化铵在高温反应釜中温和温度下反应制备得到厚度为2~6nm的氮化硼超薄纳米片。由于氮化硼超薄纳米片的高的热稳定性,高比表面积(226m2/g)以及较大的孔容(0.405cm3/g),可应用于催化剂载体等方面。
搜索关键词: 一种 表面积 超薄 氮化 纳米 制备 方法
【主权项】:
一种超薄氮化硼纳米片的制备方法,是将氧化硼,锌、铁或镍与盐酸肼、氯化铵或溴化铵在温和温度下进行固相反应,步骤如下:将氧化硼粉末,锌粉、铁粉或镍粉,盐酸肼、氯化铵或溴化铵中的一种按摩尔比1∶(2~4)∶(0.8~2.1)混合,密封在高压釜中,于450℃~600℃下反应2~20小时;产物酸洗3~5遍,然后水洗,常规离心分离、干燥,获得厚度为2~6纳米、比表面积200~300平米/克的氮化硼纳米片。
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