[发明专利]一种通过压强变化判断刻蚀终止点的方法无效
| 申请号： | 201010238650.1 | 申请日： | 2010-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN102337522A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 林英浩 | 申请（专利权）人： | 沈阳拓荆科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52;H01L21/66;H01J37/32 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及PECVD设备刻蚀领域，具体为一种通过压强变化判断刻蚀终止点的方法，它是在PECVD设备进行腔体刻蚀清洗时，判断清洗完成的方法。需要判断刻蚀终止点的腔体与排气管道连通，排气管道上设有阀，通过监测腔体内压强变化来判断刻蚀终止点。本发明方法简单、方便、可靠性高，解决现有技术中存在的成本较高等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 压强 变化 判断 刻蚀 终止 方法 | ||
【主权项】：
一种通过压强变化判断刻蚀终止点的方法，其特征在于：需要判断刻蚀终止点的腔体与排气管道连通，排气管道上设有阀，通过监测腔体内压强变化来判断刻蚀终止点。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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