[发明专利]硼化钛/氮化硅纳米多层涂层及其制备方法无效
| 申请号： | 201010237724.X | 申请日： | 2010-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN101886242A | 公开（公告）日： | 2010-11-17 |
| 发明（设计）人： | 张晶晶;许辉;祝新发;李玉阁;李戈扬 | 申请（专利权）人： | 上海工具厂有限公司;上海交通大学 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/34 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 31201 | 代理人： | 王锡麟;王桂忠 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种切削工具技术领域的硼化钛/氮化硅纳米多层涂层及其制备方法，纳米多层涂层由TiB2和Si3N4两种材料交替沉积形成纳米量级的多层结构，在多层结构中的每一个双层结构，TiB2层的厚度为2～8nm，Si3N4层厚为0.2～0.8nm。制备方法如下：首先将金属或陶瓷基体表面作镜面抛光处理，然后通过在金属或陶瓷的基体上采用在Ar气氛中双靶射频溅射方法交替沉积TiB2层和Si3N4层，制取TiB2/Si3N4纳米多层涂层，其中TiB2采用TiB2靶直接溅射得到，而Si3N4采用直接溅射Si3N4化合物靶材提供。本发明所得的TiB2/Si3N4纳米多层涂层不但具有优良的高温抗氧化性，而且具有高于37GPa，最高达到45GPa的硬度。本发明作为高速切削刀具尤其是高速切削的铣削刀具和螺纹刀具的表面涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 硼化钛 氮化 纳米 多层 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种TiB2/Si3N4纳米多层涂层，其特征在于，由TiB2和Si3N4两种材料交替沉积形成纳米量级的多层结构，在多层结构中的每一个双层结构，Si3N4层的厚度为0.2～0.8nm，TiB2层的厚度为2～8nm，纳米多层涂层的总厚度为1～4μm。
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