[发明专利]具有低缺陷整体窗的化学机械抛光垫有效
| 申请号： | 201010231569.0 | 申请日： | 2010-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN102310366A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | M·J·库尔普;S·H·威廉姆斯 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D13/14 | 分类号： | B24D13/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 沙永生;周承泽 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种化学机械抛光垫，其包括抛光层，所述抛光层包括整体窗和抛光表面，所述抛光表面适合用来对选自磁性基片、光学基片和半导体基片的基片进行抛光，所述整体窗的配方在抛光过程中提供了改进的缺陷性能。还提供了一种使用所述化学机械抛光垫对基片进行抛光的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 缺陷 整体 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光垫，其包括：抛光层，其包括抛光表面和整体窗；所述整体窗在所述抛光层中成为一体；所述整体窗是固化剂与异氰酸酯封端的预聚物多元醇的聚氨酯反应产物；所述固化剂包含固化剂胺部分，该固化剂胺部分能够与所述异氰酸酯封端的预聚物多元醇中所含的未反应的NCO部分反应，形成所述整体窗；以胺部分与未反应的NCO部分的化学计量比为1∶1至1∶1.25的用量提供所述固化剂与所述异氰酸酯封端的预聚物多元醇；所述整体窗的孔隙率＜0.1体积％；所述整体窗的压缩形变为5 25％；其中，所述抛光表面适合用来对选自磁性基片、光学基片和半导体基片的基片进行抛光。
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