[发明专利]一种纱线连续金属镀膜的方法及装置

摘要

本发明公开一种纱线连续金属镀膜方法及装置。该方法采用如下工艺：1.先将真空室的压力抽至≤2×10-3Pa，然后充入氩气，使真空室的工作压强达到0.5-3.0Pa；2.再把纱线平行往复地连续引进真空室的磁控溅射区内，在100-2000w的溅射功率下镀膜，然后卷绕即得；磁控溅射区是指由两块间隔40-200mm平行放置的矩形靶材构成的区间；纱线通过磁控溅射区内的时间为300-30秒。该装置适用于本发明纱线连续金属镀膜方法，包括真空室和其内两块靶材构成磁控溅射区，其特征在于真空室内按工艺路线还依次安装有退纱筒、张力装置、前导纱转子、后导纱转子、导纱器和卷绕筒以及传动装置和控制机构等。

主权项

一种纱线连续金属镀膜方法，该方法采用如下工艺：(1).先将真空室的压力抽至≤2×10-3Pa，然后充入氩气，使真空室的工作压强达到0.5-3.0Pa；(2).再把纱线平行往复地连续引进真空室的磁控溅射区内，在100-2000w的溅射功率下，使金属不断地沉积在纱线的表面上镀膜，然后卷绕即得；所述的磁控溅射区是指由两块间隔40-200mm平行放置的矩形靶材构成的区间；所述纱线通过磁控溅射区内的时间为300-30秒。