[发明专利]确定光刻机的最佳焦距的方法无效
| 申请号： | 201010170097.2 | 申请日： | 2010-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN102236262A | 公开（公告）日： | 2011-11-09 |
| 发明（设计）人： | 黄玮 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种确定光刻机的最佳焦距的方法，包括如下步骤：提供具有测试标记的掩膜板，所述测试标记包括不对称的且具有尖锐结构的第二测试标记；将所述测试标记转移到基底上；测试不同焦距下光刻机的套刻偏移量值；找出最小的套刻偏移量值，则其对应的焦距即为光刻机的最佳焦距。本发明通过将测试标记设计为尖锐的不对称结构，仅需采用套刻测试设备在不同焦距下检测测试标记的套刻偏移量值，然后比较找出最小的焦距偏移量，就可确定光刻机的最佳焦距，步骤简单，可较大幅度提高光刻机的最佳焦距检测效率；而且本发明的测试标记采用了尖锐的不对称结构，光刻机对此比较灵敏，可更好地提高焦距测试结果的准确率。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 光刻 最佳 焦距 方法 | ||
【主权项】：
一种确定光刻机的最佳焦距的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：提供具有测试标记的掩膜板，所述测试标记包括不对称的且具有尖锐结构的第二测试标记；将所述测试标记转移到基底上；测试不同焦距下光刻机的套刻偏移量值；找出最小的套刻偏移量值，则其对应的焦距即为光刻机的最佳焦距。
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