[发明专利]器件制造方法和光刻设备

摘要

本发明公开了一种器件制造方法和光刻设备。具体地，一种掩模被用于印刷图案。由于掩模图案表面拓扑，会发生图像误差，例如在所投影图案中的相邻亮线之间的强度不平衡。为了帮助消除或减轻强度不平衡的问题，投影系统可以包括光学相位调节器，其构造并布置成调节穿过调节器的辐射束的光学束的电场的相位。通过适当地调节从掩模图案发射的零级、正第一级和负第一级衍射辐射的相位实现减小强度不平衡。通过有差别地调节照射的不同部分的相位，所述方法可以应用使得不会发生例如由于零级衍射引起的焦深的减小。

主权项

一种将交替型相移掩模的掩模图案投影到衬底上的器件制造方法，所述方法包括步骤：用辐射束照射所述掩模图案，以提供从所述掩模图案发射的零级衍射辐射、第一第一级衍射辐射和第二第一级衍射辐射；采用投影系统将所述掩模图案成像到衬底上；和使用光学相位调节器调节相位，其中所述零级和第一级衍射辐射穿过所述光学相位调节器，所述调节包括步骤：使用所述相位调节器调节所述零级衍射辐射的相位、以基本上匹配所述第一第一级衍射辐射的相位，或反之亦然，和使用所述相位调节器调节所述第二第一级衍射辐射的相位、以基本上匹配所述第一第一级衍射辐射的相位加180°。