[发明专利]一种用于MOCVD的基片加热炉

摘要

本发明揭示了一种用于MOCVD的基片加热炉，包括炉体、加热电阻丝和电极，其特征在于：所述炉体为圆柱状结构，架设于耐高温的绝缘隔板之上，炉体内穿设有多组平面内均匀分布或多平面立体分布的加热电阻丝，且所述炉体的环状外壁设有热屏蔽层，并在绝缘隔板下侧设有用于外接电源的电极。应用本发明的加热炉，一方面提高了电热炉的功率密度和真空常压下的最大加热温度；可以更细致地调节温度分布，达到加热均匀的目的；并且采用金属薄板和绝缘材料间隔形成热屏蔽层，降低了炉体圆面边缘的温度梯度，使加热炉形成恒温区，并在断电后迅速降温。

主权项

一种用于MOCVD的基片加热炉，包括炉体、加热电阻丝和电极，其特征在于：所述炉体为圆柱状结构，架设于耐高温的绝缘隔板之上，炉体内穿设有一组以上加热电阻丝，且所述炉体的环状外壁设有热屏蔽层，并在绝缘隔板下侧设有用于外接电源的电极。