[发明专利]在基材上形成薄膜的方法和设备有效
| 申请号: | 201010157905.1 | 申请日: | 2010-03-29 |
| 公开(公告)号: | CN101962757A | 公开(公告)日: | 2011-02-02 |
| 发明(设计)人: | E·沃尔克;R·L·迪卡洛 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/455 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈哲锋;周承泽 |
| 地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | 揭示了一种在载气中提供恒定浓度的气相的含金属前体化合物的方法。这种方法特别可用来为多个气相沉积反应器提供恒定浓度的气态含金属的化合物。 | ||
| 搜索关键词: | 基材 形成 薄膜 方法 设备 | ||
【主权项】:
一种在基材上沉积膜的方法,该方法包括:(a)提供蒸发容器,所述蒸发容器包括装有待蒸发的前体化合物的室,所述蒸发容器具有气体入口和气体出口,与气体入口流体连通的载气进料管线,所述载气进料管线具有载气控制阀,气体控制阀,以及在气体出口和一个或多个气相沉积反应器之间流体连通的气体出口管线,所述气体出口管线具有压力换能器和浓度换能器,所述气体控制阀、压力换能器和浓度换能器各自与控制器电连接;(b)将包含蒸发的前体化合物和载气的气体混合物输送到所述一个或多个气相沉积反应器;(c)通过选自以下的步骤,将所述气体混合物中前体化合物的浓度保持基本恒定:(1)检测气体出口管线中的气体混合物中蒸发的前体化合物的浓度;将检测的浓度(c)与参照浓度(co)相比较,以提供浓度差(c‑co);使用所述浓度差在控制器中产生信号;将所述信号传送到气体控制阀,其中,所述信号调节气体控制阀,以调节蒸发容器内的总压力,以便使得气体出口管线中的气体混合物中蒸发的前体化合物的浓度基本保持恒定;(2)为蒸发容器提供温度检测装置,设置所述温度检测装置以检测前体化合物的温度;检测前体化合物的温度;将检测的温度(T)与参照温度(To)相比较,以提供温度差(T‑To);使用所述温度差在控制器中产生信号;将所述信号传送到气体控制阀,其中,所述信号调节气体控制阀,以调节蒸发容器内的总压力,以便将气体出口管线中的气体混合物中蒸发的前体化合物的浓度基本保持恒定;和(3)所述(1)和(2)的组合;以及(d)在所述一个或多个沉积反应器中,将所述气体混合物置于足以沉积膜的条件下。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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