[发明专利]用于手机摄像头的CMOS图象传感器在封装中控制污染的方法无效

专利信息
申请号: 201010150352.7 申请日: 2010-04-20
公开(公告)号: CN101834149A 公开(公告)日: 2010-09-15
发明(设计)人: 张慧杰;孙振兴;王金龙 申请(专利权)人: 天津三星电机有限公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/56
代理公司: 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 代理人: 刘英兰
地址: 300210 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种用于手机摄像头的CMOS图象传感器在封装中控制污染的方法;实施步骤如下:(1)选择改善的生产线体;(2)测定各生产工位处洁净度和各工位污染物产生情况,选出整个线体中需要进行改善的核心工位;(3)对选出的核心工位进行污染物收集,通过对污染物的成分分析得出污染源;(4)根据污染源的实际情况选取相应的改善方法进行改善;(5)确认最终的改善效果,继而全面推行。本发明通过对污染物进行分析和改善,有效达到控制污染物的目的。该方法简单快速,效果非常显著。
搜索关键词: 用于 手机 摄像头 cmos 图象 传感器 封装 控制 污染 方法
【主权项】:
一种用于手机摄像头的CMOS图象传感器在封装中控制污染的方法;其特征在于具体实施步骤如下:(1)选择改善的生产线体;所选择的改善生产线体,为生产稳定、设备移动正常、污染物造成的不良率接近全工程平均不良率,在整个生产车间的线体中具有代表性;(2)测定各生产工位处洁净度和各工位污染物产生情况,选出整个线体中需要进行改善的核心工位;(3)对选出的核心工位进行污染物收集,通过对污染物的成分分析得出污染源;具体操作:使用傅里叶红外光谱仪和电子扫描电镜对污染物进行成分分析;红外适用于有机物成分分析,电子扫描电镜适用于无机物成分分析;根据对污染物分析的谱图,导出污染源,选取对制品品质影响最大的前三个污染源作为改善的重点;(4)根据污染源的实际情况选取相应的改善方法进行改善;具体操作:在污染源处改善主要是更换污染源材质,对污染源进行清洗,对于摩擦产生的污染源进行润滑;在污染源传播途径上改善主要是增加排风,增设洁净空气过滤器,消除空气中的涡流;在制品表面改善主要是进行制品表面的防静电处理,制品表面清洗以及制品关键部位隔离;(5)确认最终的改善效果,继而全面推行。
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