[发明专利]用于衬底处理腔室的工艺配件有效
| 申请号： | 201010138516.4 | 申请日： | 2008-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN101787519A | 公开（公告）日： | 2010-07-28 |
| 发明（设计）人： | 克里斯托夫·M·帕夫洛夫;伊扬·理查德·洪 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种工艺配件，包含护板和放置在处理腔室中的衬底支架周围的环组件，该环组件用于减少工艺沉积物沉积在内部腔室组件和衬底的悬臂边缘上。该护板包含：圆柱带，该圆柱带具有围绕溅射靶的顶壁和围绕衬底支架的底壁；支撑壁架；倾斜阶梯；和具有气体热导孔的U型沟道。该环组件包含沉积环和盖环，盖环在环周界周围具有球形隆凸。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 衬底 处理 工艺 配件 | ||
【主权项】：
一种在衬底处理腔室中的沉积环周围放置的盖环，所述沉积环位于腔室中的衬底支架和圆柱护板之间，并且所述盖环包含：(a)环形楔，其包含围绕所述衬底支架的倾斜顶表面，所述倾斜顶表面具有内部和外部外围、所述倾斜顶表面的外部外围周围的球形隆凸、从所述倾斜顶表面向下延伸以放置在所述沉积环上的基脚，以及在所述倾斜顶表面的内部外围周围的凸起边；以及(b)从所述环形楔向下延伸的内部和外部圆柱带，所述内部带的高度小于所述外部带。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料股份有限公司，未经应用材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010138516.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光虚拟专用网系统和终端装置以及集中控制装置和光通信网
- 下一篇：电梯装置
- 同类专利
- 专利分类
