[发明专利]涂布显影装置、涂布显影方法和存储介质

摘要

本发明提供一种连续多次在基板上形成抗蚀剂图案的涂布显影装置，能防止基板受颗粒的污染。该涂布显影装置包括控制部和基板侧面疏水模块，该控制部控制基板搬送单元和各模块的动作以对基板实施由疏水模块至少对基板侧面部进行疏水处理的步骤和由涂布模块全面地进行第一抗蚀剂涂布的步骤中的一个和另一个，还实施由曝光装置进行第一液浸曝光后，由显影模块进行第一显影的步骤，之后由涂布模块全面地进行第二抗蚀剂涂布的步骤，和由曝光装置进行第二液浸曝光之后，由显影模块进行第二显影的步骤，该基板侧面部疏水模块用于从第一显影完成后至进行第二液浸曝光的期间对基板的侧面部进行疏水处理。

主权项

一种涂布显影装置，用于在基板上连续多次形成抗蚀剂图案，其特征在于，包括：载体块，对收纳多个基板的载体进行搬入搬出；处理块，对从所述载体取出的基板进行处理，包括对基板进行疏水处理的疏水模块、对基板涂布抗蚀剂的涂布模块、向液浸曝光后的基板供给显影液进行显影的显影模块和在各模块之间搬送基板的基板搬送单元；接口块，在所述处理块与对所述抗蚀剂进行液浸曝光的曝光装置之间进行基板的交接；控制部，控制所述基板搬送单元和各模块的动作，以对基板实施下述步骤：由所述疏水模块对至少侧面部进行疏水处理的步骤和由涂布模块全面地进行第一抗蚀剂涂布的步骤，在由所述曝光装置进行完第一液浸曝光后，由所述显影模块进行第一显影的步骤，之后由涂布模块全面地进行第二抗蚀剂涂布的步骤，和进一步在由所述曝光装置进行完第二液浸曝光之后，由显影模块进行第二显影的步骤；和基板侧面部疏水模块，用于从所述第一显影完成后至进行第二液浸曝光的期间对基板的侧面部进行疏水处理。