[发明专利]高铝高始熔温度陶瓷配釉用熔块无效
| 申请号： | 201010130808.3 | 申请日： | 2010-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN101786905A | 公开（公告）日： | 2010-07-28 |
| 发明（设计）人： | 王珍;张武绪;梁健 | 申请（专利权）人： | 咸阳天隆玻璃制品有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 712000*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有高铝含量的陶瓷用熔块，是一种用于烧成温度较高的陶瓷配釉所用的熔剂料，其熔块的组成范围为(按重量百分比)：SiO2 65～75％、Al2O3 10～14％、B2O3 6～12％、CaO 2～6％、Na2O 2～6％、ZnO 2～5％、MgO 2～5％、ZrO2 5～10％；其熔块在瓷器配釉中用量范围为40～95％。本发明的特性在于：1、产品的含铝量较高(Al2O3：10～14％)；2、产品具有较高的熔融温度，缩釉温度为1000～1100℃；烧结温度为1100～1150℃；始融温度为1180～1220℃。3、可作为瓷器配釉的主要原料，其熔块在瓷器配釉中用量范围为40～95％。4、采用本技术熔块配釉，可使瓷器釉面减少针孔，提高光泽，釉面平滑，拓宽烧成温度，稳定生产。 | ||
| 搜索关键词： | 高铝高始熔 温度 陶瓷 配釉用熔块 | ||
【主权项】：
一种具有高含铝量(Al2O3：10～14％)的高铝高始熔温度陶瓷配釉用熔块，其特征在于：其熔块的组成范围为(按重量百分比)：SiO265～75％、Al2O3 10～14％、B2O3 6～12％、CaO 2～6％、Na2O 2～6％、ZnO 2～5％、MgO 2～5％、ZrO2 5～10％；
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