[发明专利]射频功率控制系统有效
| 申请号： | 201010105234.4 | 申请日： | 2010-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN101801153A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | 戴维·J·库莫;保罗·艾尔曼;卡尔·约里亚蒂;威廉·施滕格莱因;拉里·J·菲斯克二世;亚伦·瑞多姆斯基;理查德·范 | 申请（专利权）人： | MKS仪器有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 罗正云;王琦 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及射频功率控制系统。一种射频(RF)系统，包括分配M个预定频率间隔的控制模块。该系统还包括N个RF源，各个RF源以所述M个预定频率间隔中被指派的相应预定频率间隔内的频率向等离子体腔室内的电极施加第一RF功率。N个RF源中的各个RF源还响应包括来自所述等离子体腔室的反馈的第二RF功率。所述N个RF源各包括基于所述第二RF功率和所述M个预定频率间隔中的相应预定频率间隔来调整所述第一RF功率的处理模块。M和N是大于1的整数。 | ||
| 搜索关键词： | 射频 功率 控制系统 | ||
【主权项】：
一种射频(RF)系统，包括：控制模块，分配M个预定频率间隔；以及N个RF源，各个RF源以所述M个预定频率间隔中被指派的相应预定频率间隔内的频率向等离子体腔室内的电极施加第一RF功率，并且各个RF源响应包括来自所述等离子体腔室的反馈的第二RF功率，其中所述N个RF源各包括处理模块，该处理模块基于所述第二RF功率和所述M个预定频率间隔中的相应预定频率间隔来调整所述第一RF功率，其中M和N是大于1的整数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于MKS仪器有限公司，未经MKS仪器有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010105234.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种保健上衣、裤子和裙子
- 下一篇：一种衣袖下侧为双层结构的棉服
